半导体超纯水处理设备工艺是什么？

传统式的超纯水设备关键采用电渗析法、离子交换器(阳床、阴床、复床、阳离子树脂)。新式半导体材料超纯水设备采用优秀的EDI(持续电除盐技术性)机器设备。EDI是由电渗析法技术性和离子交换树脂技术性有机化学结合在一起产生的一种新式除盐技术性，能够合理的除去水里基本上因此的离子，出水量电阻能够平稳在15MΩ.CM之上，连续运行、无化学污染、水的使用率高，在超纯水制备工艺上拥有强劲的优点宽阔的应用前景。根据离子交换柱及选择透过性离子交换树脂做到高除盐实际效果，能够与反渗透系统软件协同加工工艺，用于制得电阻10~17MΩ·CM的高端纯净水。

大家致力于半导体材料超纯水设备的研制生产加工，在此与此同时该设施还适用太阳能光伏产业用超纯水设备解决、PCB用超纯水、电视用超纯水、收录机用超纯水等。运用做到符合规定的水资源，尽量地降低机器设备的环境污染，增加机器设备的使用寿命，也减少操作人员的维护保养任务量。在工艺技术上，用我国饮用水规范的水是原水，配有介质过滤器、活性炭过滤器、钾离子软化器、反渗透设备等构成预备处理系统软件，RO反渗透软件系统均配有工作压力保护设备、线上水质监测控制仪表、电气设备采用PLC程序控制器，真真正正的做到了没有人监守，一起在加工工艺选材上采用强烈推荐和客户要求相统一的方式，使机器设备与其他同行业相比，具备更强的性价比高和机器设备稳定性。

半导体材料超纯水设备制取超纯水工艺

1、采用离子交换法方法(离子交换法工艺参数)，其过程如下所示：原水→原水加压水泵→多介质过滤器→多介质过滤器→软化水设备→反渗透设备→阳环氧树脂过虑床→阴环氧树脂过虑床→阳阴环氧树脂阳离子树脂→微孔过滤器→用水点

2、采用二级反渗透方法，其过程如下所示：原水→原水加压水泵→多介质过滤器→多介质过滤器→软化水设备→反渗透设备→首先级反渗透→PH调整→正中间储水箱→第二级反渗透(反渗透膜表层带正电)→提纯储水箱→纯离心水泵→微孔过滤器→用水点

半导体材料超纯水解决设备简介

3、采用EDI方法，其过程如下所示：原水→原水加压水泵→多介质过滤器→多介质过滤器→软化水设备→反渗透设备→一级反渗透机→正中间储水箱→正中间离心水泵→EDI系统软件→微孔过滤器→用水点

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